日本武藏野musashino精密拋光裝置MA-150用于半導(dǎo)體、玻璃、光學(xué)等材料加工

更新時(shí)間：2024-07-05

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我們的精密拋光系統(tǒng)是一種稱(chēng)為金剛石研磨的新方法。

磨床和研磨機(jī)（拋光機(jī)）采用適合使用金剛石磨粒進(jìn)行精密拋光的復(fù)合材料。

拋光盤(pán)熱變形小，拋光時(shí)能保持平整度，因此可以將不同硬度的樣品拋光平整，達(dá)到平整度小于λ/10、表面粗糙度小于0.01μm的光潔度。

由于拋光盤(pán)易于加工，任何人都可以通過(guò)在拋光裝置上安裝附件來(lái)保持和校正平整度并具有可重復(fù)性。該操作使得可以消除板上的表面擺動(dòng)。該附件只能安裝在e型（MA-200e、MA-300e、MA-400e）精密拋光設(shè)備上。

拋光設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)保證了高精度，并經(jīng)過(guò)精加工使表面擺動(dòng)保持在5μm以內(nèi)。

加工材料示例

半導(dǎo)體材料（硅（Si）、鍺（Ge）、碳化硅（SiC）、硅化鍶（SrSi2）、砷化鎵（GaAs）、砷化銦鎵（InGaAs）、磷化銦（InP）、氧化銦鎵鋅（InGaZnO）））、氮化鎵（GaN）、氧化鎵（Ga2O3）、碲化鎘（CdTe）等）

光學(xué)材料（石英玻璃（SiO2）、藍(lán)寶石（Al2O3）、螢石透鏡（CaF2）、尖晶石（MgAl2O4）、磷酸鹽玻璃（ZnO-SnO-P2O5）、硼酸鋰（Li2B4O7）、丙烯酸樹(shù)脂（PMMA）、CLBO（CsLiB6O10） ), YiG(Y3Fe5O12), GGG(Gd3Ga5O12)...等)

日本武藏野musashino精密拋光裝置MA-150用于半導(dǎo)體、玻璃、光學(xué)等材料加工

日本武藏野musashino精密拋光裝置MA-150用于半導(dǎo)體、玻璃、光學(xué)等材料加工